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J-GLOBAL ID:200902233503804910   整理番号:08A1149056

イオン性液体中での電析による制御可能な直径を持つシリコン・ナノワイアの室温成長

Growth of Silicon Nanowires of Controlled Diameters by Electrodeposition in Ionic Liquid at Room Temperature
著者 (6件):
資料名:
巻:号: 10  ページ: 3468-3474  発行年: 2008年10月 
JST資料番号: W1332A  ISSN: 1530-6984  CODEN: NALEFD  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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室温における非水溶媒中の絶縁性ナノ細孔性膜内でSiイオンを電気化学的に還元する電気化学的鋳型合成法を使ってSiNWを初めて作製した。この簡易的合成法は革新的かつ安価であった。SEM,TEM,FTIR,XRD,EDX,Ramanを使って特性評価し,電析したままのSiNWはアモルファスで,均一なサイズの純粋なSiであることを示した。得られたSiNWの平均直径および長さは鋳型であるナノ細孔性膜の細孔(400~15nm)および厚さに依存した。また,アニーリング処理すると結晶性SiNWが得られた。
シソーラス用語:
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分類 (2件):
分類
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電極過程  ,  原子・分子のクラスタ 

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