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J-GLOBAL ID：200902233551303256   整理番号：03A0692887

ナノ構造ジブロック共重合体膜:すれすれ入射小角中性子散乱研究

Nanostructured Diblock Copolymer Films: A Grazing Incidence Small-Angle Neutron Scattering Study

著者 (3件)： MUELLER-BUSCHBAUM P (TU Muenchen, Garching, DEU) ,  CUBITT R (Inst. Laue-Langevin, Grenoble, FRA) ,  PETRY W (TU Muenchen, Garching, DEU)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 19  号： 19  ページ： 7778-7782  発行年： 2003年09月16日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： スピン被覆法を用いて固体基板上に完全重水素化ポリスチレンブロ...

シソーラス用語： *高分子膜 ,...
準シソーラス用語： 回転半径 ,...

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分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

物質索引 (2件)： スチレン ,  p-メチルスチレン

タイトルに関連する用語 (5件)： ナノ構造 ,  ジブロック共重合体 ,  すれすれ入射 ,  小角中性子散乱 ,  研究