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J-GLOBAL ID：200902234045706080   整理番号：09A0112365

末端にメタクリロイル基を有するハイパーブランチポリカーボネートの合成とその光硬化反応

Synthesis of Photo-curable Hyperbranched Polycarbonates with Terminal Methacryloyl Groups and their Photo-curing Reaction

著者 (4件)： 丸山研 (神奈川大学工学部物質生命化学科) ,  高添泰地 (神奈川大学工学部物質生命化学科) ,  工藤宏人 (神奈川大学工学部物質生命化学科) ,  西久保忠臣 (神奈川大学工学部物質生命化学科)
資料名： 高分子論文集  (Japanese Journal of Polymer Science and Technology)
巻： 66  号： 1  ページ： 36-42 (J-STAGE)  発行年： 2009年 
JST資料番号： G0122A  ISSN： 0386-2186  CODEN： KBRBA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ビスフェノール A ビス(クロロホルメート)(BABC)と 1,1,1-トリス(4-ヒドロキシフェニル)エタン(THPE)との反応をピリジン存在下,THF 中,25°C,3 時間の条件で行い,対応する可溶性のハイパーブランチポリカーボネート(HBPC)を高収率で合成した.次に,得られた HBPC と無水メタクリル酸との反応をピリジン中,25°C,12 時間の条件で行い,末端にメタクリロイル基を有するハイパーブランチポリカーボネート(HBPCMA)を合成した.HBPCMA の光ラジカル重合は,3 wt%の光ラジカル重合開始剤を添加した HBPCMA のフィルムを作製し,光源として 250-W 超高圧水銀灯を用いて光照射を行った.その結果,光ラジカル重合は容易に進行し,光照射 15 分でのメタクリロイル基の反応率は 28%に達した.同様に,末端にメタクリロイル基を有する直鎖状ポリカーボネート(LPCMA)を合成し,その光ラジカル重合についても検討を行った.その結果,同様の光照射条件下での LPCMA 中のメタクリロイル基の反応率は 13%であった.このことは,HBPCMA は LPCMA と比較して優れた光重合特性を有することを示唆している.次に,HBPCMA および LPCMA の光ラジカル重合前後の屈折率測定を行った結果,HBPCMA の光ラジカル重合前後の屈折率変化(Δn_D)は 0.007 あったのに対して,LPCMA は 0.004 であり,光ラジカル重合前後で,HBPCMA は LPCMA と比較して大きな屈折率変化を示すことも判明した.(著者抄録)

シソーラス用語： *超分枝重合体 ,  *ポリカーボネート ,  光開始剤 ,  ラジカル重合 ,  紫外線照射 ,  架橋【高分子】 ,  屈折率 ,  光重合
準シソーラス用語： *UV硬化 ,  *光開始ラジカル重合 ,  UV照射 ,  硬化【高分子】 ,  光重合反応

分類 (2件)： 高分子の立体構造  (CG02031G) ,  その他の高分子の反応  (CG03040H)

引用文献 (15件)：

• 1) 西久保忠臣, 上田 充, 富永幸溢, 山寺 隆, 木下 忍, 五十嵐一郎, 古濱 亮, 桜井美弥, 福島 洋, 斉藤則彦, “UV・EB 硬化技術の最新動向”, シーエムシー出版 (2006).
• 2) D. A. Tomalia, H. Baker, J. Dewald, M. Hall, G. Kallos, S. Martin, J. Roeck, J. Ryder, and P. Smith, Polym. J., 17, 117 (1985).
• 3) C. J. Hawker, and J. M. J. Fréchet, J. Am. Chem. Soc., 112, 7638 (1990).
• 4) M. Jikei, and M. Kakimoto, Prog. Polym. Sci., 26, 1233 (2001).
• 5) Y. H. Flory, J. Am. Chem. Soc., 74, 2718 (1952).

タイトルに関連する用語 (2件)： メタクリロイル基 ,  光硬化