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J-GLOBAL ID：200902235047910870   整理番号：04A0619432

電析Crめっき膜への水素の侵入と構造変化

Transformation of Electrodeposited Cr Films Cased by Hydrogen Dissolution

著者 (4件)： 三浦雄一郎 (東京都大 大学院工学研究科) ,  横田沙織 (中央大 理工) ,  深井有 (中央大 理工) ,  渡辺徹 (東京都大 大学院工学研究科)
資料名： 日本金属学会誌  (Journal of the Japan Institute of Metals and Materials)
巻： 68  号： 8  ページ： 552-557  発行年： 2004年08月20日 
JST資料番号： G0023A  ISSN： 0021-4876  CODEN： NIKGAV  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： めっき膜中での水素の存在状態とその構造に及ぼす影響を明らかに...

シソーラス用語： めっき皮膜 ,...
準シソーラス用語： TDS【スペクトル】 ,...

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分類 (1件)： 電気めっき  (WC08023B)

引用文献 (15件)：

• 1) H. Furuya, N. Hasegawa, Y. Misaki and Y. Tanabe: J. Metal Surf. Soc. Japan 32 (1981) 637-642.
• 2) T. Watanabe and T. Kanayama: J. Japan Inst. Metals 58 (1994) 132-137.
• 3) Y. Tsuru: J. Surface Finishing Coc. Japan 54 (2003) 35-39.
• 4) Ch., J. Raub: Plating and Surface Finishing, Sep. (1993) 30-38.
• 5) A.R. Jones: Plating and Surface Finishing, Apr. (1989) 62-66.

タイトルに関連する用語 (5件)： 電析 ,  Cr ,  めっき膜 ,  水素 ,  侵入