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J-GLOBAL ID：200902235510549227   整理番号：04A0488488

前駆体としてクロム(III)アセチルアセテートを用いた硬質窒化クロム薄膜被覆のプラズマ支援金属-有機物化学蒸着

Plasma assisted metal-organic chemical vapor deposition of hard chromium nitride thin film coatings using chromium(III) acetylacetonate as the precursor

著者 (6件)： DASGUPTA A (Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND) ,  KUPPUSAMI P (Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND) ,  LAWRENCE F (Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND) ,  RAGHUNATHAN V S (Indira Gandhi Centre for Atomic Res., Kalpakkam, IND) ,  PREMKUMAR P A (Loyola Coll., Chennai, IND) ,  NAGARAJA K S (Loyola Coll., Chennai, IND)
資料名： Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing  (Materials Science & Engineering. A. Structural Materials: Properties, Microstructure and Processing)
巻： A374  号： 1/2  ページ： 362-368  発行年： 2004年06月15日 
JST資料番号： D0589B  ISSN： 0921-5093  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： クロムアセチルアセテートと最適濃度のフッ化水素アンモニウムか...

シソーラス用語： *MOCVD ,...
準シソーラス用語： 窒化クロム ,...

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分類 (1件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A)

タイトルに関連する用語 (9件)： 前駆体 ,  クロム ,  硬質 ,  窒化クロム ,  薄膜 ,  プラズマ ,  支援 ,  有機物 ,  化学蒸着