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J-GLOBAL ID：200902236116240128   整理番号：04A0229221

CW CO₂レーザ処理後の石英ガラスのウェットエッチング

Wet etching study of silica glass after CW CO₂ laser treatment

著者 (3件)： ZHAO J (Univ. California, CA, USA) ,  SULLIVAN J (Univ. California, CA, USA) ,  BENNETT T D (Univ. California, CA, USA)
資料名： Applied Surface Science  (Applied Surface Science)
巻： 225  号： 1/4  ページ： 250-255  発行年： 2004年03月30日 
JST資料番号： B0707B  ISSN： 0169-4332  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： CW CO₂レーザによる熱処理後の緩衝...

シソーラス用語： *石英ガラス ,...

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分類 (2件)： レーザ照射・損傷  (BK16040S) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (4件)： CW ,  CO2レーザ ,  石英ガラス ,  ウェットエッチング