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J-GLOBAL ID：200902236451965897   整理番号：08A0904219

半導体リソグラフィー装置におけるレンズ系調整:レンズ群回転に関する最適化

Lens System Adjustment in Semiconductor Lithography Equipment -Optimization for Lens Groups Rotation-

著者 (4件)： SHINANO Yuji (Tokyo Univ. of Agriculture and Technol.) ,  FUKAGAWA Youzou (CANON INC. Utsunomiya Optical Products Operations) ,  TAKANO Yoshimi (CANON INC. Utsunomiya Optical Products Operations) ,  YOSHIHARA Toshiyuki (CANON INC. Utsunomiya Optical Products Operations)
資料名： Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing (Web)  (Journal of Advanced Mechanical Design, Systems, and Manufacturing (Web))
巻： 2  号： 5  ページ： 844-852 (J-STAGE)  発行年： 2008年 
JST資料番号： U0027A  ISSN： 1881-3054  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 本文は,半導体リソグラフィー装置のレンズに関するレンズ収差調整問題を検討する。収差調整の目的は,ウエハ上に投影された任意の画像部分における最大値収差を最小化することである。以前は,すべての事例の部分集合に対する盲目的探索による近似解法が使われていた。しかし,その方法を使用すると計算時間はしばしば長くなり,高速解法が求められる。今日では,数理計画法研究の長足の進展により,混合整数計画法(MIP)解法が非常に早く最適解に到達できる。それが,本文で0-1MIP法に基づく厳密解法を提案する理由である。この方法はレンズ収差の最大絶対値を最小化する同じ目的で,同じ「レンズ収差問題」を取り扱う。実際の9事例において,本解法は従来の解法からの同じ結果よりも18%~56%まで最大収差値を改良する。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *フォトリソグラフィー ,  *レンズ系 ,  *収差補正 ,  *混合整数計画法 ,  厳密解 ,  計算量 ,  高速アルゴリズム ,  解法 ,  最適化 ,  ウエハ【IC】 ,  最小化問題 ,  ステッパ ,  最適設計 ,  改変

分類 (2件)： 光の像形成  (BD03050I) ,  数理計画法  (KA03030M)

引用文献 (6件)：

• (1) Okazaki, S., Suzuki, A. and Ueno, T., Semiconductor Lithography Technology for Beginners, Beginner's Book Series 29, Kougyou-chousakai, (2003), p. 43-69. (in Japanese)
• (2) Fukagawa, Y., Shinano, Y., Nakamori, M., “Optimum Adjustment for Distortion in Semiconductor Lithography Equipment,” Transactions of the Japan Society of Mechanical Engineers, Vol. 72, No. 722 (2006), pp. 308-312. (in Japanese)
• (3) Yoshihara, T., Koizumi, R., Takahashi, K., Suda, S. and Suzuki, A., “Realization of Very Small Aberration Projection Lenses,” SPIE Vol. 4000, Optical Microlithography XIII, pp. 559-566. (2000-6).
• (4) TAKAHASHI, T., From Aberration Coefficient to Automatic Design, Toukai-daigaku-shuppannkai, (1994), p. 208-209. (in Japanese)
• (5) Johnson, E. L., Nemhauser, G. L., Savelsbergh, M. W. P.,“Progress in Linear Programming-Based Algorithms for Integer Programming: An Exposition,” INFORMS Journal on Computing, Vol. 12, No. 1, (2000), pp. 2-23.

タイトルに関連する用語 (4件)： 半導体リソグラフィー ,  レンズ系 ,  レンズ ,  最適化