文献

J-GLOBAL ID：200902237664424900   整理番号：06A0419514

陽電子消滅分光法により研究したメソポーラスシリカ膜の開放間隙率の時効に誘起された増大

Ageing-induced enhancement of open porosity of mesoporous silica films studied by positron annihilation spectroscopy

著者 (6件)： HE Chunqing (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Umezono 1-1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN) ,  MURAMATSU Makoto (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Umezono 1-1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN) ,  OSHIMA Nagayasu (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Umezono 1-1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN) ,  OHDAIRA Toshiyuki (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Umezono 1-1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN) ,  KINOMURA Atsushi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Umezono 1-1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN) ,  SUZUKI Ryoichi (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Umezono 1-1-1, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
資料名： Physics Letters. A  (Physics Letters. A)
巻： 355  号： 1  ページ： 73-76  発行年： 2006年06月19日 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (7件)： 陽電子消滅分光法 ,  研究 ,  メソポーラス ,  シリカ膜 ,  間隙率 ,  時効 ,  誘起