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J-GLOBAL ID：200902238119519088   整理番号：08A1054903

耐熱性可視光応答型光触媒の開発

著者 (3件)： 田島政弘 (島根県産技セ) ,  井上淳 (島根県産技セ) ,  塩村隆信 (島根県産技セ)
資料名： 触媒討論会討論会A予稿集  (触媒討論会(A)講演予稿集)
巻： 102nd  ページ： 21  発行年： 2008年09月23日 
JST資料番号： S0874A  ISSN： 1343-9936  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 窒素ドープ型光触媒の耐熱性向上のために,シリカ被覆を行った。窒素ドープ処理を600°C以上で行うことにより,500°C程度では容易に窒素が脱離しないことを確認したが,最適な窒素ドープ量にするには,さらに600°Cでの脱窒素処理が必要であった。また,窒素含有量と光触媒活性の関係を明らかにした。(著者抄録)

シソーラス用語： 耐熱性 ,  可視光 ,  応答 ,  光照射 ,  *光触媒 ,  酸化チタン ,  窒素 ,  ドーピング ,  被覆 ,  触媒活性 ,  *触媒調製 ,  二酸化ケイ素
準シソーラス用語： シリカ ,  光応答

分類 (1件)： 光化学一般  (CB08010U)

タイトルに関連する用語 (3件)： 耐熱性 ,  可視光応答型光触媒 ,  開発