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J-GLOBAL ID：200902238121391188   整理番号：09A0422970

最新報告32/22nm以降の先端リソグラフィ ギガフォトンの露光装置用ArFレーザ光源 TGM技術およびOPS・LNMの改良でCD変動を低減 液浸ダブルパターニングで量産32nmノード対応へ

著者 (15件)： 若菜克彦 (ギガフォトン) ,  對馬弘朗 (ギガフォトン) ,  松本慎一 (ギガフォトン) ,  吉野雅也 (ギガフォトン) ,  熊崎貴仁 (ギガフォトン) ,  渡邊英典 (ギガフォトン) ,  太田毅 (ギガフォトン) ,  田中智史 (ギガフォトン) ,  鈴木徹 (ギガフォトン) ,  半井宏明 (ギガフォトン) ,  川筋康文 (ギガフォトン) ,  黒須昭彦 (ギガフォトン) ,  松永隆 (ギガフォトン) ,  藤本准一 (ギガフォトン) ,  溝口計 (ギガフォトン)
資料名： Semiconductor FPD World  (Semiconductor FPD World)
巻： 28  号： 6  ページ： 48-49  発行年： 2009年04月20日 
JST資料番号： Y0509B  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 次世代32nmノードでは,液浸技術とダブルパターニング(DP)露光の組合せが最も有力な技術として期待されている。本稿では,ギガフォトン社の次世代液浸DP露光に必要なArFレーザ光源の開発動向を紹介した。次世代ArFレーザ光源では,高スループットと高精度制御の安定化が求められている。同社は,これの実現のために多くの開発,改良を行い,液浸DP露光用ArFレーザ光源「GT62A」を開発した。開発に当たっては多くの技術開発を行ったが,その中で特に,エネルギー安定化によるCD(Critical Dimension:最小加工寸法)変動の低減,フォーカス安定化によるCD変動の改善,およびE95スペクトル幅可変技術によるDOF(Depth of Focus:焦点深度)の拡大効果について説明した。

シソーラス用語： *超LSI ,  *フォトリソグラフィー ,  パターン形成 ,  *光源 ,  アルゴン化合物 ,  フッ化物 ,  *エキシマレーザ ,  安定化 ,  長さ ,  回路パターン形成 ,  *多重露光 ,  スループット ,  焦点深度
準シソーラス用語： ArF ,  ダブルパターニング ,  フッ化アルゴン ,  液浸リソグラフィー ,  最小加工寸法 ,  *二重露光

分類 (3件)： 電子工学一般  (NC01000A) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  半導体集積回路  (NC03162T)

タイトルに関連する用語 (10件)： 報告 ,  リソグラフィ ,  露光装置 ,  ARF ,  レーザ光源 ,  Cd ,  液浸 ,  ダブルパターニング ,  量産 ,  32nmノード