文献

J-GLOBAL ID：200902238719314986   整理番号：08A0979761

ポリフェニルシルセスキオキサン類で改質したポリジメチルシロキサンネットワーク構造 合成,構造解析並びに熱安定性及び透気性の評価

Poly(dimethylsiloxane) networks modified with poly(phenylsilsesquioxane)s: Synthesis, structural characterisation and evaluation of the thermal stability and gas permeability

著者 (4件)： PRADO L.a.s.a. (Instituto de Quimica, Universidade Estadual de Campinas, Campinas Sao Paulo, Caixa Postal 6154-CEP 13084-971 ...) ,  SFORCA Mauricio L. (Instituto de Quimica, Universidade Estadual de Campinas, Campinas Sao Paulo, Caixa Postal 6154-CEP 13084-971 ...) ,  DE OLIVEIRA Adriana G. (Instituto de Quimica, Universidade Estadual de Campinas, Campinas Sao Paulo, Caixa Postal 6154-CEP 13084-971 ...) ,  YOSHIDA Inez V.P. (Instituto de Quimica, Universidade Estadual de Campinas, Campinas Sao Paulo, Caixa Postal 6154-CEP 13084-971 ...)
資料名： European Polymer Journal  (European Polymer Journal)
巻： 44  号： 10  ページ： 3080-3086  発行年： 2008年10月 
JST資料番号： B0690A  ISSN： 0014-3057  CODEN： EUPJA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ジフェニルシランジオール(DPS),フェニルトリエトキシシラン(PTES)及び/又はテトラエトキシシラン(TEOS)で改質した,ポリフェニルシルセスキオキサン(PPSQ)とポリジメチルシロキサン(PDMS)とからゾル-ゲル法によって,半無機高分子材料から成る自立半透明膜を製造した。これら材料の特性を,赤外分光法(FTIR),X線回折(XRD)及び熱重量分析(TGA)で解析した。時間遅れ法を用い,N₂,O₂,CH₄及びCO₂の気体透過性並びに特定気体組み合わせに対する選択性を調べた。気体分離工程において,特に添加剤としてDPS及びPTESを含む膜は,高透過係数及び高選択係数を有した。これらの結果から,CO₂/CH₄及びCO₂/N₂分離にこれら膜を応用可能であった。これら材料は,ニ官能性(D),三官能性(T)及び四官能性(Q)けい素単位間の相対量と関連する,優れた熱安定性を示した。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： ナノテクノロジー ,  *高分子分離膜 ,  *ポリジメチルシロキサン ,  ポリシルセスキオキサン ,  ゾル-ゲル法 ,  ガス分離 ,  *透過率 ,  選択透過膜 ,  脂肪族アルコール ,  無機酸エステル
準シソーラス用語： ポリフェニルシルセスキオキサン ,  選択係数

分類 (1件)： 高分子固体のその他の性質  (CG02025L)

物質索引 (4件)： ジフェニルシランジオール ,  テトラエトキシシラン ,  フェニルシルセスキオキサン ,  フェニルトリエトキシシラン

タイトルに関連する用語 (8件)： ポリフェニルシルセスキオキサン ,  改質 ,  ポリジメチルシロキサン ,  ネットワーク構造 ,  構造解析 ,  熱安定性 ,  透気性 ,  評価