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J-GLOBAL ID：200902239069257024   整理番号：08A0943180

Cat-CVD法によるHMDSを用いたSiN_x系ガスバリア膜の組成評価

著者 (3件)： 佐々木大樹 (北陸先端科学技術大学院大) ,  大平圭介 (北陸先端科学技術大学院大) ,  松村英樹 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 69th  号： 2  ページ： 563  発行年： 2008年09月02日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *化学蒸着 ,  *窒化ケイ素 ,  *ガスバリヤ性 ,  蒸着膜 ,  化学組成 ,  ポリエチレンテレフタレート ,  基板 ,  膜分離
準シソーラス用語： *Cat-CVD

分類 (2件)： その他の無機化合物の薄膜  (BK14060A) ,  膜分離  (XD02120Z)

物質索引 (1件)： HMDS

タイトルに関連する用語 (5件)： Cat-CVD ,  HMDS ,  ガスバリア膜 ,  組成 ,  評価