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J-GLOBAL ID：200902239190384041   整理番号：06A0560504

和周波発生(SFG)分光法を用いたpoly(NIPAAm)表面構造の研究

著者 (4件)： 宮前孝行 (産業技術総合研 ナノテクノロジー研究部門) ,  秋山陽久 (産業技術総合研 ナノテクノロジー研究部門) ,  吉田勝 (産業技術総合研 ナノテクノロジー研究部門) ,  玉置信之 (産業技術総合研 ナノテクノロジー研究部門)
資料名： 高分子学会予稿集(CD-ROM)  (高分子学会討論会予稿集(CD-ROM))
巻： 55  号： 1 Disk1  ページ： 3PB064  発行年： 2006年05月10日 
JST資料番号： Z0703C  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *ポリイソプロピルアクリルアミド ,...
準シソーラス用語： 高分子ゲル ,...

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分類 (1件)： 高分子固体の構造と形態学  (CG02022M)

タイトルに関連する用語 (4件)： 和周波発生 ,  分光法 ,  表面構造 ,  研究