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J-GLOBAL ID：200902239366550180   整理番号：06A0638910

薄層フィルムの凝縮器乾燥における乾燥速度の限界

Drying-Rate Limit in Condenser Drying of Thin Film Coatings

著者 (4件)： YAMAMURA Masato (Dep. of Applied Chemistry, Kyushu Inst. of Technol.) ,  INOUE Takayuki (Dep. of Applied Chemistry, Kyushu Inst. of Technol.) ,  MAWATARI Yoshihide (Dep. of Applied Chemistry, Kyushu Inst. of Technol.) ,  KAGE Hiroyuki (Dep. of Applied Chemistry, Kyushu Inst. of Technol.)
資料名： Journal of Chemical Engineering of Japan  (Journal of Chemical Engineering of Japan)
巻： 39  号： 8  ページ： 814-817 (J-STAGE)  発行年： 2006年 
JST資料番号： S0629A  ISSN： 0021-9592  CODEN： JCEJAQ  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 溶媒-ポリマ溶液被覆の無空気凝縮器乾燥を異なる乾燥計画で観察...

シソーラス用語： *高分子溶液 ,...

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分類 (1件)： 気体の乾燥(減湿)・増湿  (XD02020Q)

引用文献 (6件)：

• Carvalho, M. S., W. B. Kolb and K. F. Schilli; “Drying System and Method for an Electrophotographic Imaging System,” U.S. Patent 6,047,151 (2000)
• Huelsman, G. L. and W. B. Kolb; “Coated Substrate Drying System,” U.S. Patent 5,694,701 (1997)
• Kolb, W. B. and G. L. Huelsman; “Gap Drying: An Overview,” Proceeding of the 9th International Coating Science and Technology Symposium, pp. 209–212, Delaware, U.S.A. (1998)
• Munter, J. D., W. B. Kolb and G. L. Huelsman; “Coated Substrate Drying System with Magnetic Particle Orientation,” U.S. Patent 5,813,133 (1998)
• Ramesh, N. and J. L. Duda; “Analysis of a Gap Dryer Used to Produce Polymer Films and Coatings,” AIChE J., 47, 972–983 (2001)

タイトルに関連する用語 (4件)： 薄層フィルム ,  凝縮器 ,  乾燥速度 ,  限界