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J-GLOBAL ID：200902240213870168   整理番号：09A1106321

高密度プラズマ集束装置におけるパルスイオンビームアブレーションによるDLC幕の作製

Fabrication of DLC films by pulsed ion beam ablation in a dense plasma focus device

著者 (5件)： WANG Z.p. (Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  YOUSEFI H.r. (Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  NISHINO Y. (Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  ITO H. (Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN) ,  MASUGATA K. (Dep. of Electric and Electronic System Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
資料名： Physics Letters. A  (Physics Letters. A)
巻： 373  号： 45  ページ： 4169-4173  発行年： 2009年11月02日 
JST資料番号： C0600B  ISSN： 0375-9601  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (5件)： 高密度プラズマ ,  集束 ,  DLC ,  幕 ,  作製