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J-GLOBAL ID：200902240452191833   整理番号：09A1131429

フッ素化パラジウム錯体触媒を用いた二酸化炭素圧誘起不均一および均一HeckおよびSonogashiraカップリング反応

Carbon dioxide pressure induced heterogeneous and homogeneous Heck and Sonogashira coupling reactions using fluorinated palladium complex catalysts

著者 (8件)： AKIYAMA Y. (Div. of Chemical Process Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Sapporo 060-8628, JPN) ,  MENG X. (Div. of Chemical Process Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Sapporo 060-8628, JPN) ,  FUJITA S. (Div. of Chemical Process Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Sapporo 060-8628, JPN) ,  CHEN Y.-c. (Inst. of Organic and Polymeric Materials, National Taipei Univ. of Technol., Taipei 106, Taiwan) ,  LU N. (Inst. of Organic and Polymeric Materials, National Taipei Univ. of Technol., Taipei 106, Taiwan) ,  CHENG H. (State Key Lab. of Electroanalytical Chemistry, Changchun Inst. of Applied Chemistry, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  ZHAO F. (State Key Lab. of Electroanalytical Chemistry, Changchun Inst. of Applied Chemistry, Chinese Acad. of Sciences ...) ,  ARAI M. (Div. of Chemical Process Engineering, Graduate School of Engineering, Hokkaido Univ., Sapporo 060-8628, JPN)
資料名： Journal of Supercritical Fluids  (Journal of Supercritical Fluids)
巻： 51  号： 2  ページ： 209-216  発行年： 2009年12月 
JST資料番号： W1591A  ISSN： 0896-8446  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 80°C,無溶媒条件,CO₂存在下で,フルオラスポニーテールを有する親CO₂ Pd錯体触媒と有機塩基トリエチルアミン(Et₃N)を用いて,ヨードベンゼンとアクリル酸メチルのHeck反応について調べた。CO₂が存在しない場合,触媒は有機相には溶解せず,反応は固液二相系内で生じる。CO₂が有機液体混合物を加圧する場合,CO₂は有機相に溶解し,Pd錯体触媒の溶解が促進する。その結果,Heck反応が有機相内で均一に生じ,反応速度が向上する。CO₂加圧のこのプラス効果は,溶解CO₂分子の増加量が反応種を希釈するというマイナス効果と競争する。したがって,今回の反応条件下では,最大転化はCO₂圧約4MPaで生じる。触媒は,減圧により固体粒子中で分離し,n-ヘキサンおよび/または水で洗浄後に,活性を損失せずにリサイクルできる。ヘキサン単独で洗浄する場合,おそらくEt₃NHIのような塩基付加物の触媒上の蓄積により,触媒活性が繰り返しHec反応に関して増大する傾向を示す。しかし,水でさらに洗浄した場合,塩基付加物は触媒から除去され,触媒は繰り返し運転と同様の活性水準を示す。類似条件下でのヨードベンゼンとフェニルアセチレンのSonogashira反応に対しても,CO₂圧調整可能な不均一/均一反応系の可能性について調べた。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： Heck反応 ,  Sonogashira反応 ,  アンミン錯体 ,  *カップリング反応 ,  クロロ錯体 ,  *パラジウム錯体 ,  フッ素化合物 ,  圧力効果 ,  錯体生成 ,  触媒活性 ,  触媒再生 ,  触媒調製 ,  多相 ,  配位子 ,  *二酸化炭素 ,  加圧 ,  相転移 ,  FTIR分光法 ,  アルカン

分類 (2件)： 白金族元素の錯体  (CE01100E) ,  付加反応,脱離反応  (CF02030M)

物質索引 (3件)： n-ヘキサン ,  4,4′-ビス[(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,10-ノナデカフルオロデカン-1-イルオキシ)メチル]-2,2′-ビピリジン ,  4,4′-ビス[(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7,8,8,9,9,10,10,11,11,12,12,12-トリコサフルオロドデカン-1-イルオキシ)メチル]-2,2′-ビピリジン

タイトルに関連する用語 (8件)： フッ素化 ,  パラジウム ,  錯体触媒 ,  二酸化炭素 ,  圧 ,  誘起 ,  不均一 ,  Sonogashiraカップリング反応