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J-GLOBAL ID：200902240506906299   整理番号：08A0565631

NdとMnを同時にドープしたBiFeO₃薄膜における漏洩電流の減少及び強誘電特性

Reduced Leakage Current and Ferroelectric Properties in Nd and Mn Codoped BiFeO₃ Thin Films

著者 (3件)： KAWAE Takeshi (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN) ,  TSUDA Hisashi (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN) ,  MORIMOTO Akiharu (Kanazawa Univ., Kanazawa, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 1  号： 5  ページ： 051601.1-051601.3  発行年： 2008年05月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多結晶BiFeO₃(BFO),ドープしたNd(BFM),および(Nd,Mn)同時ドープしたBiFeO₃(BNFM)の薄膜をパルスレーザ蒸着によってPt/SrTiO₃(100)基板上に形成した。X線回折解析および原子間力顕微鏡による観察により,BNFM薄膜中での不純物相の抑制および表面形態の改良を実現した。BNFM薄膜ではBFO,BNFおよびBFM薄膜に比べて漏洩電流が減少し,測定周波数 100HzにおいてP-Eヒステリシスが観察された。残留分極および抗電場はそれぞれ約100μC/cm²および250kV/cmであった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *鉄酸塩 ,  *ビスマス化合物 ,  *ドーピング ,  ネオジム ,  マンガン ,  多結晶 ,  *レーザ蒸着 ,  基板 ,  チタン酸ストロンチウム ,  白金 ,  金属薄膜 ,  X線回折 ,  原子間力顕微鏡 ,  漏れ電流 ,  *ヒステリシス ,  *残留分極 ,  *抗電場 ,  パルスレーザ蒸着 ,  *共ドーピング

分類 (2件)： 酸化物薄膜  (BK14050P) ,  強誘電体,反強誘電体,強弾性  (BM05030B)

引用文献 (15件)：

• WANG, J. Science. 2003, 299, 1719
• WANG, J. Appl. Phys. Lett. 2004, 85, 2574
• YUN, K. Y. Appl. Phys. Lett. 2006, 89, 192902
• SINGH, S. K. Jpn. J. Appl. Phys. 2005, 44, L734
• YUN, K. Y. J. Appl. Phys. 2004, 96, 3399

タイトルに関連する用語 (7件)： Nd ,  Mn ,  ドープ ,  BiFeO3 ,  薄膜 ,  漏洩電流 ,  強誘電特性