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J-GLOBAL ID：200902240632784921   整理番号：08A1141238

化学噴霧熱分解法によって調製した透明なマグネシウム酸化インジウムスピネル薄膜に関する研究

Studies on transparent spinel magnesium indium oxide thin films prepared by chemical spray pyrolysis

著者 (8件)： RAJ A. Moses Ezhil (Departments of Physics, Scott Christian Coll. (Autonomous), Nagercoil-629 003, IND) ,  SENTHILKUMAR V. (Dep. of Physics, Alagappa Univ., Karaikudi-630 003, IND) ,  SWAMINATHAN V. (School of materials Sci. and Engineering, Singapore 639 798, SGP) ,  WOLLSCHLAEGER Joachim (Fachbereich Physik, Universitaet Osnabrueck, D-49069, DEU) ,  SUENDORF M. (Fachbereich Physik, Universitaet Osnabrueck, D-49069, DEU) ,  NEUMANN M. (Fachbereich Physik, Universitaet Osnabrueck, D-49069, DEU) ,  JAYACHANDRAN M. (ECMS Div., Central Electrochemical Res. Inst., Karaikudi-630 006, IND) ,  SANJEEVIRAJA C. (Dep. of Physics, Alagappa Univ., Karaikudi-630 003, IND)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 517  号： 2  ページ： 510-516  発行年： 2008年11月28日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 高い透明性を示す3成分系半導体酸化物のマグネシウムインジウム酸化物膜(MgIn₂O₄)を有機金属化合物の噴霧熱分解法によって調製した。Mg/In==0.35,0.40,0.45,0.50の様々のカチオン比で調製した前駆体を石英基板上に熱噴霧し,450°Cで分解して,スピネル相の発展について研究した。X線回折やRutherford後方散乱,X線光電子分光研究を行って,Mg/In比率0.50の単相MgIn₂O₄膜の生成を確認した。光透過性の研究から,観察された光学バンドギャップは3.18eVから3.86eVまで変化した(0.5<Mg/In<0.35)。これらの膜の電導率の変化は4端子法により30~150°Cの範囲で測定し(34.07-1.44×10^-5Scm^-1),Hall係数はn-型の電気電導と高いキャリア濃度(0.16×10²⁰-0.89×¹⁷cm^-3)を示した。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *エレクトロセラミック ,  *インジウム化合物 ,  マグネシウム化合物 ,  酸化物 ,  セラミック膜 ,  鉱物合成 ,  噴霧法 ,  熱分解 ,  スピネル型結晶 ,  電気伝導率 ,  N型半導体 ,  透明材料

分類 (2件)： 固体デバイス材料  (NC03020K) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (8件)： 化学 ,  噴霧熱分解法 ,  調製 ,  マグネシウム ,  酸化インジウム ,  スピネル ,  薄膜 ,  研究