文献

J-GLOBAL ID：200902240848595600   整理番号：08A0996455

RFスパッタリング法で作製したGe/TiO₂薄膜中のアナターゼ優勢基質

Anatase-Dominant Matrix in Ge/TiO₂ Thin Films Prepared by RF Sputtering Method

著者 (4件)： ABE Seishi (Res. Inst. Electric and Magnetic Materials, Sendai, JPN) ,  OHNUMA Masato (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  PING De Hai (National Inst. Materials Sci., Ibaraki, JPN) ,  OHNUMA Shigehiro (Res. Inst. Electric and Magnetic Materials, Sendai, JPN)
資料名： Applied Physics Express  (Applied Physics Express)
巻： 1  号： 9  ページ： 095001.1-095001.3  発行年： 2008年09月25日 
JST資料番号： F0599C  ISSN： 1882-0778  CODEN： APEPC4  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 次世代太陽電池用のGe/TiO₂複合薄膜の光吸収と結晶構造を調べた。組成最適化によりTiO₂基質のアナターゼ優勢構造が得られたことをX線回折で示した。光吸収スペクトルはGeナノ結晶粒の存在故に可視及び近赤外領域に明白に偏移し,Ge/TiO₂複合薄膜が太陽光を電力に変換できることを示唆した。アナターゼ優勢構造と都合の良い吸収の二つの有意な性質がGe/TiO₂複合薄膜で同時に維持されることが分かった。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *RFスパッタリング ,  *太陽電池 ,  薄膜成長 ,  *アナターゼ型結晶 ,  光吸収 ,  結晶構造 ,  X線回折 ,  光吸収スペクトル ,  ナノ結晶 ,  複合膜 ,  酸化チタン ,  ゲルマニウム ,  半導体薄膜
準シソーラス用語： *薄膜太陽電池

分類 (1件)： 太陽電池  (NC03084O)

引用文献 (13件)：

• NOZIK, A. J. Physica E. 2002, 14, 115
• TANG, H. J. Appl. Phys. 1994, 75, 2042
• ZABAN, A. Langmuir. 1998, 14, 3153
• LIU, D. J. Phys. Chem. 1994, 98, 3183
• WELLER, H. Ber. Bunsen-Ges. Phys. Chem. 1991, 95, 1361

タイトルに関連する用語 (7件)： RFスパッタリング ,  作製 ,  Ge ,  TiO2 ,  薄膜 ,  アナターゼ ,  基質