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J-GLOBAL ID：200902241223226816   整理番号：04A0796724

薄膜蒸着のための大面積大気圧よどみ流CVDにおける液体流と輸送プロセス

Fluid flow and transport processes in a large area atmospheric pressure stagnation flow CVD reactor for deposition of thin films

著者 (3件)： LUO G (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  VANKA S P (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA) ,  GLUMAC N (Univ. Illinois at Urbana-Champaign, IL, USA)
資料名： International Journal of Heat and Mass Transfer  (International Journal of Heat and Mass Transfer)
巻： 47  号： 23  ページ： 4979-4994  発行年： 2004年11月 
JST資料番号： C0390A  ISSN： 0017-9310  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 化学蒸着(CVD)はマイクロエレクトロニクスやオプトエレクト...

シソーラス用語： *化学蒸着 ,...

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分類 (2件)： 気相めっき  (WC08022K) ,  装置内の物質移動及び一般  (XD01020J)

タイトルに関連する用語 (7件)： 薄膜蒸着 ,  大面積 ,  大気圧 ,  よどみ流 ,  CVD ,  液体流 ,  輸送プロセス