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J-GLOBAL ID：200902241259740664   整理番号：09A0270593

垂直異方性を持つサブ100nmドット中の熱的支援磁化反転の確率的シミュレーション

Stochastic simulation of thermally assisted magnetization reversal in sub-100nm dots with perpendicular anisotropy

著者 (4件)： PURNAMA Budi (Kyushu Univ., Dep. of Electronics, 744 Motooka Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, JPN) ,  KOGA Masashi (Kyushu Univ., Dep. of Electronics, 744 Motooka Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, JPN) ,  NOZAKI Yukio (Kyushu Univ., Dep. of Electronics, 744 Motooka Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, JPN) ,  MATSUYAMA Kimihide (Kyushu Univ., Dep. of Electronics, 744 Motooka Nishi-ku, Fukuoka 819-0395, JPN)
資料名： Journal of Magnetism and Magnetic Materials  (Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 321  号： 9  ページ： 1325-1330  発行年： 2009年05月 
JST資料番号： H0644A  ISSN： 0304-8853  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： ミクロ磁性Langevinモデルを用いて,垂直異方性を持つサブ100nmドットの熱的支援磁化反転が研究された。2種類の異なる反転モード,(i)減少障壁ライティング様式と(ii)Curie点ライティング様式,の挙動が比較される。減少障壁ライティング様式に対しては反転磁場H_swtはライティング温度の増加につれて減少するが,Curie点ライティング様式よりもまだ大きい。Curie点ライティング様式に対しては50個のシミュレーションの結果から推算された必要な限界磁場H_thが,エネルギー障壁の高さと単純に関係付けられない値で飽和する。H_thの値は,磁気秩序過程の動的挙動のために冷却時間の減少につれて増加する。物質パラメータおよびドット寸法に対するH_thの依存性が系統的に調べられた。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *磁気記録材料 ,  *記憶素子 ,  *磁化反転 ,  計算機シミュレーション ,  *ナノ構造 ,  Langevin方程式 ,  Curie温度 ,  磁気秩序 ,  MRAM ,  垂直磁気異方性 ,  *量子ドット ,  *ナノドット ,  計算機利用 ,  利用
準シソーラス用語： *磁気ドット

分類 (2件)： 磁区・磁化過程一般  (BM06111M) ,  電子・磁気・光学記録  (NC06020F)

タイトルに関連する用語 (7件)： 垂直 ,  異方性 ,  サブ ,  ドット ,  支援 ,  磁化反転 ,  確率的シミュレーション