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J-GLOBAL ID：200902241293400333   整理番号：08A0604622

ふっ素化多面体オリゴマシルセスキオキサン(F-POSS)

Fluorinated Polyhedral Oligomeric Silsesquioxanes (F-POSS)

著者 (4件)： MABRY Joseph M. (Air Force Res. Lab., CA, USA) ,  VIJ Ashwani (Air Force Res. Lab., CA, USA) ,  IACONO Scott T. (Air Force Res. Lab., CA, USA) ,  VIERS Brent D. (Air Force Res. Lab., CA, USA)
資料名： Angewandte Chemie. International Edition  (Angewandte Chemie. International Edition)
巻： 47  号： 22  ページ： 4137-4140  発行年： 2008年 
JST資料番号： H0127B  ISSN： 1433-7851  CODEN： ACIEAY  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： ドイツ (DEU)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 多面体オリゴマシルセスキオキサン(POSS)はケイ素-酸素コア骨格からなる熱的にきわめて安定な化合物である。その周縁ケイ素原子に結合したアルキル鎖をふっ素化した,オクタマふっ素化POSS化合物(F-POSS;(R_f)₈Si₈O₁₂)をトリアルコキシシラン,R_fSi(OEt)₃の塩基触媒縮合反応によりワンポット合成した:R_f=CH₂CH₂(CF₂)_nCF₃(n=3,5,7)。これらのF-POSS(n=3,5,7に対し各々FH,FO,FD)が熱的ならびに化学的(加水分解)に安定な化合物であることを示した。FHとFDについてはX線結晶構造解析を行い,フルオロアルキル鎖は硬い棒状置換基として振る舞い,平行に積層していることが分かった。FH~FDの水に対する接触角を測定し,きわめて疎水性の高い固体(FD結晶の水接触角=154°)であることが分かった。

シソーラス用語： *オリゴマ ,  *ポリシルセスキオキサン ,  *置換基効果 ,  アルキル基 ,  *フッ素化 ,  *疎水性 ,  接触角 ,  水 ,  ワンポット合成 ,  *結晶構造 ,  分子構造 ,  X線構造解析 ,  熱安定性 ,  三斜晶系 ,  *多面体オリゴシルスセスキオキサン
準シソーラス用語： *多面体オリゴマシルセスキオキサン

分類 (2件)： 有機けい素化合物  (CF08030C) ,  有機半金属・有機金属化合物の結晶構造  (BK08040B)

タイトルに関連する用語 (3件)： ふっ素化 ,  多面体オリゴマシルセスキオキサン ,  POSS