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J-GLOBAL ID：200902242571150609   整理番号：09A0713552

ガラス・ナノインプリントによる表面レリーフ格子のためのモールド設計と製造

Mold Design and Fabrication for Surface Relief Gratings by Glass Nanoimprint

著者 (7件)： MORI Toshiharu (Konica Minolta Opto, Inc., Hyogo, JPN) ,  KIMOTO Yoshihisa (Osaka Prefecture Univ., Sakai, JPN) ,  KASA Haruya (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  KINTAKA Kenji (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  HOTOU Norihito (Osaka Prefecture Univ., Sakai, JPN) ,  NISHII Junji (National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol., Osaka, JPN) ,  HIRAI Yoshihiko (Osaka Prefecture Univ., Sakai, JPN)
資料名： Japanese Journal of Applied Physics  (Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48  号： 6,Issue 2  ページ： 06FH20.1-06FH20.4  発行年： 2009年06月25日 
JST資料番号： G0520B  ISSN： 0021-4922  CODEN： JJAPB6  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： イギリス (GBR)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： モールド形状が高いアスペクト比をもつ1次元のガラス格子を製造するために最適化されてきた。実験結果とシミュレーションした結果の比較は,傾斜側壁,放物線歯先そして大きな幅をもつ周期的溝がガラス表面上の高アスペクト比格子をインプリントすることが望ましいことが示された。特に,放物線歯先と広い溝をもつモールドがアスペクト比を増加させるために有効であった。500nm周期をもつモールドのケースでは,540nmの高さの格子を430°C,5MPaおよび5分の各々最適化されたインプリンティングパラメータのもとでインプリントすることができた。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： *ガラス ,  *押付成形 ,  回折格子 ,  *型 ,  設計 ,  形態 ,  アスペクト比 ,  最適化 ,  シミュレーション ,  傾斜 ,  側壁 ,  放物線 ,  幅 ,  溝 ,  周期 ,  高さ
準シソーラス用語： *ナノインプリント ,  表面レリーフ格子

分類 (2件)： 固体デバイス製造技術一般  (NC03030V) ,  ガラスの性質・分析・試験  (YC02030Z)

引用文献 (22件)：

• J. Nishii, K. Kintaka, and T. Nakazawa: Appl. Opt.43(2004)1327.
• T. Glaser, S. Schröter, H. Bartelt, H. Fuchs, and E. Kley: Appl. Opt.41(2002)3558.
• S. J. Wilson and M. C. Hutley: J. Mod. Opt.29(1982)993.
• H. Toyota, K. Takahara, M. Okano, T. Yotsuya, and H. Kikuta: Jpn. J. Appl. Phys.40(2001) L747.
• H. Kikuta, Y. Ohira, and K. Iwata: Appl. Opt.36(1997)1566.

タイトルに関連する用語 (5件)： ガラス ,  ナノインプリント ,  表面レリーフ格子 ,  モールド ,  設計