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J-GLOBAL ID：200902243154696603   整理番号：06A0164142

イオンビーム支援堆積法によりSiウエハ上に堆積したTiO₂膜の結晶構造に対する酸素イオンビーム照射効果

Effects of oxygen ion beam application on crystalline structures of TiO₂ films deposited on Si wafers by an ion beam assisted deposition

著者 (5件)： YOKOTA Katsuhiro (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  YANO Yoshikazu (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  NAKAMURA Kazuhiro (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  OHNISHI Masami (Kansai Univ., Osaka, JPN) ,  MIYASHITA Fumiyoshi (Kansai Univ., Osaka, JPN)
資料名： Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms  (Nuclear Instruments & Methods in Physics Research. Section B. Beam Interactions with Materials and Atoms)
巻： 242  号： 1-2  ページ： 393-395  発行年： 2006年01月 
JST資料番号： H0899A  ISSN： 0168-583X  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

タイトルに関連する用語 (8件)： イオンビーム支援堆積 ,  Siウエハ ,  堆積 ,  TiO2 ,  結晶構造 ,  酸素イオン ,  ビーム ,  照射効果