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J-GLOBAL ID：200902243794624552   整理番号：04A0513369

原子間力顕微鏡観察を用いたリソグラフィーによるアミノ終端化表面の形成

Generation of Amino-Terminated Surfaces by Chemical Lithography Using Atomic Force Microscopy

著者 (4件)： SAITO N (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  MAEDA N (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  SUGIMURA H (Nagoya Univ., Nagoya, JPN) ,  TAKAI O (Nagoya Univ., Nagoya, JPN)
資料名： Langmuir  (Langmuir)
巻： 20  号： 13  ページ： 5182-5184  発行年： 2004年06月22日 
JST資料番号： A0231B  ISSN： 0743-7463  CODEN： LANGD5  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 酸化物薄層で被覆し,加水分解したn型けい素上に(p-アミノフ...

シソーラス用語： *ケイ素 ,...
準シソーラス用語： カンチレバー ,...

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分類 (2件)： 固-液界面  (CB12050B) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

物質索引 (2件)： 4-(トリメチルシリル)アニリン ,  1-ニトロソ-4-(トリメチルシリル)ベンゼン

タイトルに関連する用語 (3件)： 原子間力顕微鏡観察 ,  リソグラフィー ,  終端