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J-GLOBAL ID：200902244284494456   整理番号：08A0425679

低温超音波計測による酸化熱処理FZシリコン結晶の原子空孔観測

著者 (7件)： 渡邊肇 (新潟大 大学院) ,  後藤輝孝 (新潟大 大学院) ,  金田寛 (新潟大 物質量子科学研究セ) ,  根本祐一 (新潟大 大学院) ,  昆金正敏 (新潟大 大学院) ,  柳澤達也 (新潟大 物質量子科学研究セ) ,  中村慎太郎 (東北大 金属材料研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 55th  号： 2  ページ： 816  発行年： 2008年03月27日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *超音波応用計測 ,  *熱処理 ,  *酸化 ,  *ケイ素 ,  半導体 ,  浮遊融解 ,  液相成長 ,  *単結晶 ,  *空格子点
準シソーラス用語： 空孔【点欠陥】

分類 (1件)： 半導体の格子欠陥  (BK12040Q)

タイトルに関連する用語 (7件)： 低温 ,  超音波計測 ,  酸化 ,  熱処理 ,  シリコン結晶 ,  原子空孔 ,  観測