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J-GLOBAL ID:200902244738334785   整理番号:09A0729736

第二鉄イオンを含むステインエッチング液内で形成したポーラスシリコンの構造的およびフォトルミネセンス研究

Structure and photoluminescence studies of porous silicon formed in ferric ion containing stain etchants
著者 (2件):
資料名:
巻: 206  号:ページ: 1240-1244  発行年: 2009年06月 
JST資料番号: D0774A  ISSN: 1862-6300  CODEN: PSSABA  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: ドイツ (DEU)  言語: 英語 (EN)
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FeCl3+HF+濃縮(HClO4またはH2SO4)を成分として含む水溶液をステインエッチング液に用い,約500μm厚のp型シリコン(100)面をエッチングし,ポーラスシリコンを作製し,SEM観察,および,フォトルミネセンスにより構造的,光学的性質を調べた。その結果,3時間を超えるエッチング処理の結果得られたポーラスシリコンは,上部層と下部層からなる二層構造をなすことが分かった。すなわち,上部層(約3μm厚)は青色ルミネセンス(560~590nmにピーク)を示し,ポロシティは84%を越え,一方,下部層は赤色ルミネセンス(630~645nmにピーク)を示し,低いポロシティを持つ構造であった。上部層は相対的に高いポロシティを持つため亀裂や剥離を受けやすい。乾燥過程を調節して,亀裂や剥離を減らすことは可能であるが,完全に除去することはできなかった。また,ブラシ研摩により,下部層を残したまま上部層を除去することは簡単にでき,また,研磨後の試料はフォトルミネセンスを示した。
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分類 (1件):
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半導体のルミネセンス 

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