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J-GLOBAL ID：200902245318967193   整理番号：04A0699371

アミノ基終端シリコン表面の作成 (II)

著者 (2件)： 板橋敦 (北陸先端科学技術大学院大) ,  村田英幸 (北陸先端科学技術大学院大)
資料名： 応用物理学会学術講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Annual Meeting. Japan Society of Applied Physics)
巻： 65th  号： 3  ページ： 1089  発行年： 2004年09月01日 
JST資料番号： Y0055A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,...

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

タイトルに関連する用語 (3件)： アミノ基 ,  終端 ,  シリコン