スパッタリング法を用いたキトサンの被膜化に関する研究

小西友英; 倉鋪憲; 相羽誠一; 岩本正治

文献

J-GLOBAL ID：200902246684127110 整理番号：06A0249658

スパッタリング法を用いたキトサンの被膜化に関する研究

Study on preparation of chitosan layers by sputtering

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資料名：
巻： 12 号： 1 ページ： 7-15 発行年： 2006年04月01日
JST資料番号： L2321A ISSN： 1340-9778 CODEN： KKKEFB 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：日本 (JPN) 言語：日本語 (JA)

スパッタリング法を用いて基質表面にキトサン層を形成する可能性...

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多糖類

引用文献 (8件)：

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