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J-GLOBAL ID：200902247686166080   整理番号：06A0117947

ファインチャネルミスト法によるZnO透明薄膜の作製とその特性

Fabrication and Properties of ZnO Thin Films Prepared by Fine Channel Mist Mehtod

著者 (6件)： 川原村敏幸 (京大 大学院工学研究科) ,  西中浩之 (京大 大学院工学研究科) ,  亀谷圭介 (京大 国際融合創造セ) ,  増田喜男 (セラミックフォーラム) ,  谷垣昌敬 (京大 国際融合創造セ) ,  藤田静雄 (京大 国際融合創造セ)
資料名： 材料  (Journal of the Society of Materials Science, Japan)
巻： 55  号： 2  ページ： 153-158  発行年： 2006年02月15日 
JST資料番号： F0385A  ISSN： 0514-5163  CODEN： ZARYA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： エレクトロニクスの重要な部分に用いられる金属酸化物薄膜の成膜...

シソーラス用語： *酸化亜鉛 ,...

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分類 (1件)： 酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (25件)：

• 1) C. V. R. V. Kumar and A. A. Mansingh, J. Appl. Phys, 60, 1270 (1989).
• 2) L. Tamisier and A. Carani, Electrochim. Acta, 32, 1365 (1987).
• 3) J. E. Costellamo, “Handbook of Display Technology” (1992) Academic Press, New York.
• 4) S. Ishibashi, Y. Higuchi, Y. Ota and K. Nakamuva, J. Vac. Sci. Technol., 18, 1399 (1990).
• 5) K. L. Chopra and S. R. Das, “Thin Film Solar Cell”, p.321 (1983) Plenum Press, New York.

タイトルに関連する用語 (3件)： ZnO ,  薄膜 ,  作製