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J-GLOBAL ID：200902248364877882   整理番号：09A0815007

溶融塩・イオン液体と表面処理技術 低温溶融塩・室温イオン液体を用いるAlおよびAl合金電析

著者 (2件)： 上田幹人 (北大 大学院工学研究科) ,  宇井幸一 (岩手大 大学院工学研究科)
資料名： 表面技術  (Journal of the Surface Finishing Society of Japan)
巻： 60  号： 8  ページ： 491-496  発行年： 2009年08月01日 
JST資料番号： G0441B  ISSN： 0915-1869  CODEN： HYGIEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： AlCl₃系の低温溶融塩あるいは室温イオン液体を用いたAlおよびAl合金の電析について解説した。AlCl₃-KCl-NaCl無機系共晶溶融塩の融点は93°Cであり,通常は150~180°Cで用いられる。この系ではAlのデンドライト成長の抑制が必要であり,皮膜厚さ数μm以上の平滑膜を得ることは困難である。温度が高いため,通常の水溶液系用の平滑剤あるいは光沢剤は使用できない。有機系室温型溶融塩(イオン液体)としてはAlCl₃と1-ブチルピリジニウムクロリド(BPC)あるいは1-エチル-3-メチルイミダゾリウムクロリド(EMIC)などについて主に研究が行われている。これらの系におけるルイス酸塩基平衡に基づく活量の変化について述べた。有機系室温型溶融塩を用いる場合には皮膜厚さ10μm程度までは平滑膜が得られる。それ以上の厚さでは平滑剤の使用が必要になる。温度が低いため,平滑剤などの添加剤として有機溶媒が使用できる。ベンゼンなどの添加により優先配向を持つ電析皮膜を得ることができる。溶融塩による懸濁液を用いたAl系複合材料皮膜の作製,Al合金電析における電析機構,Alの無電解めっきなどについて説明した。

シソーラス用語： 塩化アルミニウム ,  *融解塩 ,  *イオン液体 ,  *アルミニウムめっき ,  *合金めっき ,  めっき条件 ,  平滑度 ,  添加剤 ,  *優先配向 ,  複合めっき ,  無電解めっき ,  電解液 ,  表面性状 ,  *めっき皮膜 ,  Lewis酸 ,  *室温イオン液体 ,  *常温溶融塩

分類 (2件)： 電気めっき  (WC08023B) ,  融解塩  (CB05050R)

物質索引 (2件)： 1-エチル-3-メチルイミダゾリウム ,  1-ブチルピリジニウム

引用文献 (59件)：

• 1) E. M. Levin, H. F. McMurdie and F. P. Hall ; Phase Diagram for Ceramists Vol.1, p.386 (American Ceramics Society, 1986).
• 2) A. A. Fannin Jr., D. A. Floreani, L. A. King, J. S. Landers, B. J. Piersma, D. J. Stech, R. L. Vaughn, J. S. Wilkes and J. L. Williams ; J. Phys. Chem., 88, 2614 (1984).
• 3) C. L. Hussey, T. B. Scheffler, J. S. Wilkes and A. A. Fannin Jr. ; J. Electrochem. Soc., 133, 1389 (1986).
• 4) 高橋節子 ; 電気化学, 59, 14(1991).
• 5) 松永守央, 盛満正嗣 ; 溶融塩, 42, 109(1999).

タイトルに関連する用語 (8件)： 溶融塩 ,  イオン液体 ,  表面処理 ,  低温 ,  室温イオン液体 ,  Al ,  Al合金 ,  電析