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J-GLOBAL ID：200902248589838991   整理番号：03A0317420

自己集合法による高分子薄膜の作製

Fabrication of polymeric thin films by a self-assembly method

著者 (4件)： NISHIWAKI Y (Sophia Univ., Tokyo, JPN) ,  TAKEOKA Y (Sophia Univ., Tokyo, JPN) ,  RIKUKAWA M (Sophia Univ., Tokyo, JPN) ,  SANUI K (Sophia Univ., Tokyo, JPN)
資料名： Synthetic Metals  (Synthetic Metals)
巻： 137  号： 1/3  ページ： 931-932  発行年： 2003年04月04日 
JST資料番号： C0123B  ISSN： 0379-6779  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： N-ヒドロキシこはく酸イミドと1-エチル-3-(3-ジメチル...

シソーラス用語： *高分子薄膜 ,...

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分類 (4件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L) ,  脂肪族カルボン酸・ペルオキシカルボン酸・チオカルボン酸  (CF03200E) ,  芳香族単環アミン・イミン・第四アンモニウム・インモニウム  (CF05050D) ,  重縮合  (CG04050Z)

物質索引 (4件)： N-ヒドロキシスクシンイミド ,  アジピン酸 ,  4,4′-ジアミノジフェニルメタン ,  1-[3-(ジメチルアミノ)プロピル]-3-エチルカルボジイミド

タイトルに関連する用語 (3件)： 自己集合 ,  高分子薄膜 ,  作製