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J-GLOBAL ID：200902248635435520   整理番号：05A0186365

253~328KにおけるOHラジカルとCHF₂CF₂OCHF₂およびCF₃CHFCF₂OCH₂CF₂CF₃の気相反応に関する速度論的研究

Kinetics study of the gas-phase reactions of CHF₂CF₂OCHF₂ and CF₃CHFCF₂OCH₂CF₂CF₃ with OH radicals at 253-328K

著者 (4件)： CHEN L (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  KUTSUNA S (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  TOKUHASHI K (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN) ,  SEKIYA A (National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名： Chemical Physics Letters  (Chemical Physics Letters)
巻： 403  号： 1/3  ページ： 180-184  発行年： 2005年02月14日 
JST資料番号： B0824A  ISSN： 0009-2614  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 253~328Kにおける標題反応の速度定数,k<sub>1<...

シソーラス用語： 気相反応 ,...

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分類 (1件)： 光化学反応,ラジカル反応  (CF02090A)

物質索引 (2件)： 1,1,2,2-テトラフルオロエチルジフルオロメチルエーテル ,  1,1,2,3,3,3-ヘキサフルオロプロピル2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピルエーテル

タイトルに関連する用語 (4件)： OHラジカル ,  気相反応 ,  速度論 ,  研究