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J-GLOBAL ID：200902248916081387   整理番号：09A0536797

冷却水系におけるシリカスケール沈着に及ぼすアルミニウムの影響

Effect of aluminum on the deposition of silica scales in cooling water systems

著者 (6件)： NISHIDA Ikuko (Kurita Water Industries Ltd., 1-1 Gochoyama, Kawada, Nogi-machi, Shimotsuga-gun, 329-0105, JPN) ,  NISHIDA Ikuko (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci., Kyusyu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN) ,  SHIMADA Yuuki (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci., Kyusyu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN) ,  SAITO Tomoyuki (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci., Kyusyu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN) ,  OKAUE Yoshihiro (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci., Kyusyu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN) ,  YOKOYAMA Takushi (Dep. of Chemistry, Fac. of Sci., Kyusyu Univ., Hakozaki, Higashi-ku, Fukuoka 812-8581, JPN)
資料名： Journal of Colloid and Interface Science  (Journal of Colloid and Interface Science)
巻： 335  号： 1  ページ： 18-23  発行年： 2009年07月01日 
JST資料番号： C0279A  ISSN： 0021-9797  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 冷却水とシリカスケールの化学分析,²⁷Alマジック角スピニングNMRによるシリカスケール中アルミニウムの特性化,冷却水中の粒子粒度分布とAl/Si原子比,ゼータ電位との関係,シリカスケール模倣物としてのシリカゲル粉末表面への粒子吸着特性により,冷却水からのシリカスケール生成機構を研究した。結果から,シリカスケール生成中,冷却水からアルミニウムがシリカスケールへ濃縮され,6-配位アルミニウムが優先的に固体表面へ吸着し,ポリ塩化アルミニウム添加後に異なるサイズ,表面電荷,Al/Si比の種々の粒子が,冷却水中で生成することを決定した。冷却水中における静電相互作用に基づくシリカスケール生成機構を提案した。6配位アルミニウムから成り,正電荷を持ち,0.2μmより小さな水酸化アルミニウム粒子の生成と,続く固体表面へのそれらの吸着がシリカスケール生成に寄与する最重要因子である。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *スケール ,  *冷却水 ,  化学分析 ,  アルミニウム27NMR ,  MASNMR ,  粒度分布 ,  ζ電位 ,  機構 ,  *アルミニウム ,  濃縮 ,  配位化合物 ,  塩化アルミニウム ,  静電相互作用 ,  水酸化アルミニウム ,  吸着 ,  *付着 ,  板 ,  石油精製 ,  *二酸化ケイ素 ,  ポリ塩化アルミニウム ,  銅板
準シソーラス用語： *シリカ ,  生成機構

分類 (3件)： 上水道工学・用水処理一般  (SC02010X) ,  非金属化合物  (CD01070R) ,  石油精製一般  (YF02010M)

タイトルに関連する用語 (3件)： 冷却水 ,  シリカスケール ,  アルミニウム