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J-GLOBAL ID：200902249007003706   整理番号：04A0754620

Au(111)単結晶基板上に堆積されたバナジルフタロシアニン薄膜の配向のアニール処理時間依存性

Orientation of Vanadyl-Phthalocyanine Thin Film Treated with Annealing and Fabricated on Au (111) Substrate

著者 (7件)： JIN Y (愛知工大) ,  沢五郎 (愛知工大) ,  内田悦行 (愛知工大) ,  小嶋憲三 (愛知工大) ,  大橋朝夫 (愛知工大) ,  落合鎮康 (愛知工大) ,  水谷昭吉 (名古屋大 大学院工学研究科)
資料名： 真空  (Journal of the Vacuum Society of Japan)
巻： 47  号： 9  ページ： 712-716  発行年： 2004年09月20日 
JST資料番号： G0194A  ISSN： 0559-8516  CODEN： SHINA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： ナノエレクトロニクス及びオプトエレクトロニクス分野で高配向の...

シソーラス用語： *バナジル錯体 ,...
準シソーラス用語： シュードモルフィック成長

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分類 (1件)： 有機化合物の薄膜  (BK14070L)

引用文献 (16件)：

• LU, X. J. Am. Chem. Soc. 1996, 118, 7196
• LU, X. J. Phys. Chem, B. 1997, 101, 5391
• HIPPS, K. W. J. Phys. Chem., B. 2000, 104, 2444
• 前田昭徳. Trans. IEE of Japan, A. 1998, 118, 464
• Dojin news. 1999, 091

タイトルに関連する用語 (7件)： Au ,  単結晶基板 ,  堆積 ,  薄膜 ,  配向 ,  アニール処理 ,  時間依存性