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J-GLOBAL ID：200902249128805842   整理番号：04A0585919

半導体・FPD製造工程におけるクリーン化技術 半導体・FPD製造工程におけるクリーンエアシステムの最新動向

The anti-pollution technology in semiconductor and FPD manufacturing processes. The latest trend of the clean air system in semiconductor and FPD manufacturing processes.

著者 (1件)： 平沢真也 (日本エアーテック)
資料名： 電子材料  (Electronic Parts and Materials)
巻： 43  号： 8  ページ： 18-24  発行年： 2004年08月01日 
JST資料番号： F0040A  ISSN： 0387-0774  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 半導体・FPD製造工程におけるクリーンエアシステムの最新動向...

シソーラス用語： *クリーンルーム ,...
準シソーラス用語： *平板ディスプレイ ,...

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分類 (2件)： 空気浄化  (PC02060X) ,  固体デバイス製造技術一般  (NC03030V)

タイトルに関連する用語 (5件)： FPD ,  製造工程 ,  クリーン化技術 ,  クリーンエア ,  最新動向