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J-GLOBAL ID：200902249277751933   整理番号：06A0066676

エキシマ・レーザー照射によるUV吸収性SiO2系ガラス表面上でのTiO2ミクロ網目の形成

Formation of a TiO2 Micronetwork on a UV-Absorbing SiO2-Based Glass Surface by Excimer Laser Irradiation
著者 (6件)：
NARAZAKI Aiko

NARAZAKI Aiko について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

, 
KAWAGUCHI Yoshizo

KAWAGUCHI Yoshizo について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

, 
NIINO Hiroyuki

NIINO Hiroyuki について

(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)

National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN について

, 
SHOJIYA Masanori

SHOJIYA Masanori について

(Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Hyogo, JPN)

Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Hyogo, JPN について

, 
KOYO Hirotaka

KOYO Hirotaka について

(Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Hyogo, JPN)

Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Hyogo, JPN について

, 
TSUNETOMO Keiji

TSUNETOMO Keiji について

(Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Hyogo, JPN)

Nippon Sheet Glass Co., Ltd., Hyogo, JPN について


資料名：
Chemistry of Materials  (Chemistry of Materials)

Chemistry of Materials について


巻： 17  号： 26  ページ： 6651-6655  発行年： 2005年12月27日 
JST資料番号： T0893A  ISSN： 0897-4756  CODEN： CMATEX  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)
抄録/ポイント：
抄録/ポイント
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エキシマ・レーザーを照射してレーザー誘起表層相分離させ,UV...
シソーラス用語：
シソーラス用語/準シソーラス用語
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エキシマレーザ

エキシマレーザ について

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準シソーラス用語：
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EPMA【表面分析】

EPMA【表面分析】 について


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分類 (2件)：
分類
JSTが定めた文献の分類名称とコードです
塩基,金属酸化物 
(CD01030Z)

塩基,金属酸化物 について

,  試料技術 
(BA02070O)

試料技術 について

タイトルに関連する用語 (6件)：
タイトルに関連する用語
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エキシマ

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レーザー照射

レーザー照射 について

, 
UV吸収

UV吸収 について

, 
SiO2

SiO2 について

, 
ガラス

ガラス について

, 
TiO2

TiO2 について


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