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J-GLOBAL ID：200902251885175338   整理番号：09A0621996

CNx膜のトライボロジー特性に及ぼす紫外線照射の影響

著者 (4件)： 神谷真人 (名大 院) ,  野老山貴行 (名大 院) ,  不破良雄 (トヨタ自動車) ,  梅原徳次 (名大 院)
資料名： 日本機械学会東海支部総会講演会講演論文集  (日本機械学会東海支部総会講演会講演概要集)
巻： 58th  ページ： 199-200  発行年： 2009年03月01日 
JST資料番号： L0013A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 本研究の目的は,窒素雰囲気において超低摩擦を発現するCNx膜に,紫外線を照射することで種々の摩擦条件下においてなじみ過程を短縮し,摩擦係数を減少させることである。紫外線を照射した後のCNx膜は,窒素雰囲気下において摩擦係数は0.01を下回り,なじみ過程も短縮された。またポリアルファオレフィン潤滑中においては0.017という低い摩擦係数が得られた。大気中においても紫外線照射下で摩擦することで摩擦係数が減少した。(著者抄録)

シソーラス用語： 摩擦 ,  *トライボロジー ,  摩擦係数 ,  紫外線照射 ,  窒素 ,  雰囲気 ,  ポリオレフィン ,  *炭素化合物 ,  *窒化物 ,  イオンビーム混合 ,  セラミック被覆
準シソーラス用語： *窒化炭素

分類 (2件)： 潤滑一般  (QB02010S) ,  セラミック・磁器の性質  (YC03030G)

タイトルに関連する用語 (2件)： トライボロジー特性 ,  紫外線照射