文献

J-GLOBAL ID：200902252461644687   整理番号：05A0427583

シリカガラスへのイオンマイクロビーム照射効果のイオン種依存性

著者 (8件)： 村井将人 (芝浦工大) ,  深川一成 (芝浦工大) ,  西川宏之 (芝浦工大) ,  中村知晴 (早稲田大 理工) ,  大木義路 (早稲田大 理工) ,  佐藤隆博 (原研) ,  及川将一 (原研) ,  荒川和夫 (原研)
資料名： 応用物理学関係連合講演会講演予稿集  (Extended Abstracts. Spring Meeting. Japan Society of Applied Physics and Related Societies)
巻： 52nd  号： 2  ページ： 1019  発行年： 2005年03月29日 
JST資料番号： Y0054A  資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

シソーラス用語： *イオンビーム ,...
準シソーラス用語： シリカガラス

   続きはJDreamIII（有料）にて  {{ this.onShowAbsJLink("http://jdream3.com/lp/jglobal/index.html?docNo=05A0427583&from=J-GLOBAL&jstjournalNo=Y0054A") }}

分類 (3件)： 光導波路,光ファイバ,繊維光学  (BD06030H) ,  その他の光デバイス  (BD06060O) ,  分光法と分光計一般  (BD07041Q)

タイトルに関連する用語 (5件)： シリカガラス ,  イオンマイクロビーム ,  照射効果 ,  イオン種 ,  依存性