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J-GLOBAL ID：200902252513139978   整理番号：08A0840644

可視光下でのNドープのTiO₂粒子の光触媒活性に対する熱処理の影響

Effect of thermal treatment on photocatalytic activity of N-doped TiO₂ particles under visible light

著者 (7件)： YAMADA Kenji (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  YAMANE Hirokazu (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  MATSUSHIMA Shigenori (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  NAKAMURA Hiroyuki (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  OHIRA Kayo (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  KOUYA Mai (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...) ,  KUMADA Kiyoshi (Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
資料名： Thin Solid Films  (Thin Solid Films)
巻： 516  号： 21  ページ： 7482-7487  発行年： 2008年09月01日 
JST資料番号： B0899A  ISSN： 0040-6090  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 窒素ガスを用いるプラズマ処理により窒素をドープした(N-ドープ)TiO₂粒子を調製して,N-ドープTiO₂粒子の可視光活性の耐熱性について調べる。粒子は,373~673Kの範囲で窒素や空気中で熱処理される。N-ドープTiO₂粒子の可視光照射での光触媒活性は,窒素と空気中共に熱処理温度の増加により減少して,673Kではほとんど存在しない。窒素雰囲気中で熱処理後のN-ドープTiO₂粒子の可視光吸収は目立っている。熱処理によりドープした窒素原子が粒子から除去されて,可視光吸収を生ずる酸素空孔を形成する。他方,空気中の熱処理では,可視光吸収は減少する。熱処理の間にドープされた窒素原子が酸素原子によって置換され,構造がオリジナルのTiO₂粒子の構造に戻る。Copyright 2008 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *光触媒 ,  ドーパント ,  窒素 ,  *酸化チタン ,  可視光 ,  感受性 ,  触媒活性 ,  熱処理 ,  空気 ,  空孔欠陥

分類 (3件)： 光化学一般  (CB08010U) ,  触媒操作  (XE01050T) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (5件)： 可視光 ,  ドープ ,  TiO2 ,  光触媒活性 ,  熱処理