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J-GLOBAL ID：200902253186973604   整理番号：06A0181700

CMP用SiO2スラリーの摩擦特性及び研磨結果に関する研究

A Study on Frictional Characteristics and Polishing Results of SiO2 Slurry in CMP
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著者 (6件)：
LEE Hyunseop

LEE Hyunseop について

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PARK Boumyoung

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SEO Heondeok

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JUNG Jaewoo

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JEONG Sukhoon

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JEONG Haedo

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資料名：
Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. A  (Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. A)

Transactions of the Korean Society of Mechanical Engineers. A について


巻： 29  号： 7  ページ： 983-989  発行年： 2005年07月01日 
JST資料番号： H0857B  ISSN： 1226-4873  資料種別： 逐次刊行物 (A)
発行国： 韓国 (KOR)  言語： 韓国語 (KO)
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CMP

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SiO2

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研究

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