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J-GLOBAL ID：200902253596218625   整理番号：03A0298821

rf/dcプラズマ-ガス-凝縮によるCoとSiの複合材料の堆積

Composite deposition of Co and Si clusters by rf/dc plasma-gas-codensation

著者 (4件)： KATOH R (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  HIHARA T (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  PENG D L (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN) ,  SUMIYAMA K (Nagoya Inst. Technol., Nagoya, JPN)
資料名： Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)
巻： 82  号： 16  ページ： 2688-2690  発行年： 2003年04月21日 
JST資料番号： H0613A  ISSN： 0003-6951  CODEN： APPLAB  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 共スパッタ蒸着装置を改造して二重グロー放電クラスタ源系を作っ...

シソーラス用語： グロー放電 ,...
準シソーラス用語： 直流放電

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分類 (2件)： プラズマ応用  (BJ02110K) ,  原子・分子のクラスタ  (BH09030O)

タイトルに関連する用語 (7件)： RF ,  DCプラズマ ,  凝縮 ,  CO ,  Si ,  複合材料 ,  堆積