文献

J-GLOBAL ID：200902254009092556   整理番号：09A1124502

アルミニウムカソードのAl₂O₃層へ沈着した選択テルビウム錯体の電気化学ルミネセンス

Electrogenerated chemiluminescence of chosen terbium complexes deposited into Al₂O₃ layer at the aluminium cathode

著者 (1件)： STANINSKI Krzysztof (Dep. of Rare Earths, Fac. of Chemistry, Adam Mickiewicz Univ., Grunwaldzka 6, Poznan 60-780, POL)
資料名： Journal of Luminescence  (Journal of Luminescence)
巻： 130  号： 1  ページ： 114-116  発行年： 2010年01月 
JST資料番号： D0731A  ISSN： 0022-2313  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： テルビウム(III)-(アセチルアセトナート)₃-1,10-フェナントロリン,テルビウム(III)-(サリチラート)₃,テルビウム(III)-(サリチラート)₃-1,10-フェナントロリン錯体のカソード電気化学ルミネセンス(ECL)を研究した。本実験では,メタノール溶液かアセトナート溶液からの物理吸着により,テルビウム錯体で多孔質酸化アルミニウムを被覆した。硫酸溶液中,2段階アノード酸化過程で,六方晶規則性多孔質酸化アルミニウムを調製した。本法でのカソードECLの主段階は酸化物障壁層を通してのホットエレクトロンのトンネル放出である。還元配位子芳香族化合物部分や強い酸化剤のようなラジカル種,つまり硫酸塩ラジカルの再結合により,ECLは達成された。本研究は,多孔性酸化アルミニウム層厚と関連するECLスペクトル,反応動力学,積分ECL強度を調べるために行った。Copyright 2009 Elsevier B.V., Amsterdam. All rights reserved. Translated from English into Japanese by JST.

シソーラス用語： *化学ルミネセンス ,  *テルビウム錯体 ,  カルボン酸エステル ,  カルボン酸塩 ,  ヒドロキシ酸 ,  フェノール類 ,  芳香族カルボン酸 ,  *物理吸着 ,  *電極 ,  *酸化膜 ,  *酸化アルミニウム ,  多孔性 ,  アノード酸化 ,  被覆層 ,  ホットエレクトロン ,  ポテンシャル障壁 ,  ラジカル ,  再結合 ,  層厚 ,  反応速度論 ,  放射強度 ,  発光スペクトル ,  六方晶系 ,  カソード ,  窒素複素環化合物 ,  芳香族縮合化合物 ,  脂肪族ケトン ,  ジケトン
準シソーラス用語： *アルミニウム電極 ,  サリチラート ,  トンネル障壁 ,  *酸化物膜 ,  障壁層 ,  *電気化学ルミネセンス ,  発光強度 ,  反応動力学

分類 (3件)： 第3族元素の錯体  (CE01060J) ,  錯体のルミネセンス  (BM08095R) ,  電気化学反応  (CB07050F)

物質索引 (2件)： 1,10-フェナントロリン ,  アセチルアセトン

タイトルに関連する用語 (6件)： アルミニウム ,  カソード ,  Al2O3 ,  沈着 ,  テルビウム錯体 ,  電気化学ルミネセンス