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J-GLOBAL ID：200902254482031050   整理番号：05A0797638

光・電子材料 フェムト秒レーザーアブレーションによるナノ構造生成と表面改質

Optic and electronic materials, Nanostructure generation and surface modification by femtosecond laser ablation.

著者 (2件)： 宮崎健創 (京大 エネルギー理工学研) ,  安丸尚樹 (福井工高専)
資料名： 未来材料  (Expected Materials for the Future)
巻： 5  号： 9  ページ： 28-34  発行年： 2005年09月10日 
JST資料番号： L4328A  ISSN： 1346-0986  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 解説  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： 超短パルスレーザーを用いると熱影響の小さい高精度な加工ができ...

シソーラス用語： *表面加工 ,...

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分類 (2件)： レーザの応用  (BD04100V) ,  セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V)

タイトルに関連する用語 (4件)： 電子材料 ,  フェムト秒レーザーアブレーション ,  構造生成 ,  表面改質