文献

J-GLOBAL ID：200902254586022168   整理番号：09A1098661

蜃気楼効果による反射X線ビームの増幅

Amplification of Reflected X-ray Beams by the Mirage Effect

著者 (9件)： FUKAMACHI Tomoe (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  HIRANO Kenji (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  YOSHIZAWA Masami (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  NEGISHI Riichirou (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  JU Dongying (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  TOHYAMA Masahiko (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  KANEMATSU Yoshinobu (Saitama Inst. Technol., Saitama) ,  HIRANO Keiichi (KEK-PF, Ibaraki) ,  KAWAMURA Takaaki (Univ. Yamanashi, Kofu)
資料名： Journal of the Physical Society of Japan  (Journal of the Physical Society of Japan)
巻： 78  号： 10  ページ： 103001.1-103001.4  発行年： 2009年10月15日 
JST資料番号： G0509A  ISSN： 0031-9015  CODEN： JUPSA  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： 日本 (JPN)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si単結晶からのX線を測定して,表面からの反射ビームの増幅を観測した。入射角を調節して動的回折効果に起因した実効線吸収係数を最小にした。入射方位に沿って入射X線の幅を増すと,反射ビーム強度の増強が観測された。増幅は湾曲結晶中の双曲線軌道に沿った伝搬ビームの電場の反射ビームの電場への加算により説明できる。(翻訳著者抄録)

シソーラス用語： 効果 ,  *X線反射 ,  単結晶 ,  ケイ素 ,  吸収係数 ,  結晶 ,  電場 ,  *ビーム技術 ,  入射角 ,  *増幅現象 ,  電場効果 ,  X線ビーム ,  湾曲結晶
準シソーラス用語： 蜃気楼効果 ,  ビーム伝搬

分類 (1件)： 放射線計測・計測器一般  (AD08010Y)

引用文献 (9件)：

• 1) A. Authier: in Dynamical Theory of X-ray Diffraction (Oxford University Press, Oxford, U.K., 2001).
• 2) H. Yan and I. C. Noyan: J. Appl. Crystallogr. 39 (2006) 320.
• 3) H. Yan, Ö. Kalenci, and I. C. Noyan: J. Appl. Crystallogr. 40 (2007) 322.
• 4) T. Fukamachi, M. Tohyama, Ken. Hirano, M. Yoshizawa, R. Negishi, D. Ju, Kei. Hirano, and T. Kawamura: to be published in Acta Crystallogr., Sect. A.
• 5) J. Gronkowski and C. Malgrange: Acta Crystallogr., Sect. A 40 (1984) 507.

タイトルに関連する用語 (2件)： X線ビーム ,  増幅