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J-GLOBAL ID：200902255637554212   整理番号：07A0977284

Si(100)表面における窒素原子の取り込みの光第二高調波発生研究

Optical second-harmonic generation study of incorporation of nitrogen atoms at Si(100) surfaces

著者 (5件)： TSURUMAKI H. (Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN) ,  KUROKI E. (Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN) ,  ISHIDA H. (Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN) ,  TOHARA Y. (Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN) ,  NAMIKI A. (Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
資料名： Surface Science  (Surface Science)
巻： 601  号： 19  ページ： 4629-4635  発行年： 2007年10月01日 
JST資料番号： C0129B  ISSN： 0039-6028  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： オランダ (NLD)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： Si層へのN取り込みの速度論を,表面をラジオ周波数のN<su...

シソーラス用語： *窒素 ,...
準シソーラス用語： TPD【脱着】 ,...

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分類 (2件)： 物理的手法を用いた吸着の研究  (CB12043P) ,  非線形光学  (BD05000T)

タイトルに関連する用語 (5件)： Si ,  窒素原子 ,  取り込み ,  第二高調波発生 ,  研究