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J-GLOBAL ID:200902256262798140   整理番号:09A0148434

反応性スパッタで作製したCo酸化物およびPt酸化物薄膜の酸素還元特性

Oxygen Reduction Properties of Co Oxide and Pt Oxide Thin Films Prepared by Reactive Sputtering
著者 (3件):
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巻: 21  号: 1/2  ページ: 8-15  発行年: 2008年12月30日 
JST資料番号: L0710A  ISSN: 0919-9853  CODEN: SBZAEU  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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反応性スパッタ法で酸素含有量の異なるCo酸化物薄膜とPt酸化物薄膜を作製し,回転ディスク電極により酸素還元特性を調べた。Ar100%プラズマ中で作製したCo薄膜は内部は金属Coで,極表面は水酸化物であった。Ar-50%O2プラズマ,O2100%プラズマではCoO単相であった。Pt系では反応ガス組成により金属Pt,PtO及びPtO2単相が生成した。KOH水溶液中で酸素還元特性を調べた結果,酸素還元反応は混合律速であり,4電子経路で進行した。Co系とPt系薄膜は金属薄膜よりも酸化物薄膜が高い酸素還元活性を示した。酸化物薄膜ではO/Me比の大きな薄膜が酸素還元活性に優れていた。Pt系薄膜の酸素還元活性はCo系よりも優れていた。
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分類 (1件):
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電気化学反応 
引用文献 (15件):

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