CMPにおける酸化セリウムスラリー セリア/けい酸塩相互作用の電気泳動移動度および吸着研究

SUPHANTHARIDA P; OSSEO-ASARE K

文献

J-GLOBAL ID：200902256614622616 整理番号：04A0835662

CMPにおける酸化セリウムスラリーセリア/けい酸塩相互作用の電気泳動移動度および吸着研究

Cerium Oxide Slurries in CMP. Electrophoretic Mobility and Adsorption Investigations of Ceria/Silicate Interaction

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巻： 151 号： 10 ページ： G658-G662 発行年： 2004年
JST資料番号： C0285A ISSN： 1945-7111 CODEN： JESOAN 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

ガラスおよび半導体の種々の化学研磨用途で酸化セリウム系のスラ...

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固-液界面 , 塩基,金属酸化物 , 固体デバイス製造技術一般

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CMPにおける酸化セリウムスラリー セリア/けい酸塩相互作用の電気泳動移動度および吸着研究

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