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J-GLOBAL ID：200902256738517438   整理番号：04A0834112

真空紫外エキシマランプを用いたペルヒドロポリシラザンによるシリカ薄膜の形成

Formation of Silica Coatings from Perhydropolysilazane Using Vacuum Ultraviolet Excimer Lamp

著者 (4件)： 長沼康弘 (神奈川県産業技総研) ,  田中聡美 (神奈川県産業技総研) ,  加藤千尋 (神奈川県産業技総研) ,  進藤豊彦 (コンタミネーション・コントロール・サービス)
資料名： 日本セラミックス協会学術論文誌  (Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 112  号： 1311  ページ： 599-603  発行年： 2004年11月01日 
JST資料番号： F0382A  ISSN： 0914-5400  CODEN： JCSJEW  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文  発行国： 日本 (JPN)  言語： 日本語 (JA)

抄録/ポイント： Xe₂エキシマレーザを用いる172nm...

シソーラス用語： *セラミック膜 ,...
準シソーラス用語： *シリカ

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分類 (2件)： セラミック・陶磁器の製造  (YC03020V) ,  酸化物薄膜  (BK14050P)

引用文献 (22件)：

• 1) Seyferth, D. and Wiseman, G. H., J. Am. Ceram. Soc., Vol. 67, pp. C132-C133 (1984).
• 2) Funayama, O., Arai, M., Tashiro, Y., Aoki, H., Suzuki, T., Tamura, K., Kaya, H., Nishi, H. and Isoda, T., J. Ceram. Soc. Japan (Seramikkusu Ronbunshi), Vol. 98, pp. 104-107 (1990).
• 3) Matsuo, H. and Yamada, K., Convertech, No. 4, pp. 25-29 (1995) [in Japanese].
• 4) Shimizu, Y., Toso to Toryo, No. 569, pp. 27-33 (1997) [in Japanese].
• 5) Kogelschatz, U., Eliasson, B. and Egli, W., Pure Appl. Chem., Vol. 71, pp. 1819-1828 (1999).

タイトルに関連する用語 (4件)： エキシマランプ ,  ペルヒドロポリシラザン ,  シリカ ,  薄膜