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J-GLOBAL ID：200902257277671240   整理番号：06A0077898

キンケチオフェン/フタロシアニン逐次層超薄膜中のナノパターン形成およびナノ電荷書込み

Nanopatterning and Nanocharge Writing in Layer-by-Layer Quinquethiophene/Phthalocyanine Ultrathin Films

著者 (4件)： BABA Akira (Univ. Houston, Texas) ,  LOCKLIN Jason (Univ. Houston, Texas) ,  XU Risheng (Univ. Houston, Texas) ,  ADVINCULA Rigoberto (Univ. Houston, Texas)
資料名： Journal of Physical Chemistry B  (Journal of Physical Chemistry B)
巻： 110  号： 1  ページ： 42-45  発行年： 2006年01月12日 
JST資料番号： W0921A  ISSN： 1520-6106  CODEN： JPCBFK  資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報  発行国： アメリカ合衆国 (USA)  言語： 英語 (EN)

抄録/ポイント： 金基板上に逐次層形成法によって,両端にアルキレンテトラメチル...

シソーラス用語： *パターン形成 ,...

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分類 (3件)： 電気化学反応  (CB07050F) ,  固-気界面一般  (CB12041H) ,  チオフェン  (CF07074D)

物質索引 (2件)： 5,5′′′′-ビス[6-(トリメチルアミニオ)ヘキシル]-2,2′:5′,2′′:5′′,2′′′:5′′′,2′′′′-キンクエチオフェン・2ブロミド ,  フタロシアニン-2³,7³,12^3,17³-テトラスルホン酸テトラナトリウム

タイトルに関連する用語 (6件)： フタロシアニン ,  逐次 ,  超薄膜 ,  ナノパターン形成 ,  電荷 ,  書込み